【IPO价值观】拓荆科技盈利能力不足 产品类型单一且周转率低
【编者按】近年来,中国集成电路产业一直处于风口之中。随着科创板的推出,越来越多的企业准备IPO以谋求更快的发展。为了更全面地了解IPO公司整体财务水平和行业地位,推出“IPO价值观——财务指标”系列,将正在IPO的公司各方面财务指标与集微数据库中A股135家中国芯上市公司对比分析,并对其排名,以供半导体投资者和行业人员参考。本期进行对比分析的公司为拓荆科技股份有限公司。
据笔者查询上交所网站可知,拓荆科技科创板IPO处于已问询状态。据招股说明书显示,拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。
公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。
报告期内,主要产品销售收入及占公司主营业务收入的比重如下:
分业务来看,报告期内,拓荆科技PECVD设备收入占比较高且增长较快,为公司的主要收入来源,占比近100%。
【编者按】近年来,中国集成电路产业一直处于风口之中。随着科创板的推出,越来越多的企业准备IPO以谋求更快的发展。为了更全面地了解IPO公司整体财务水平和行业地位,推出“IPO价值观——财务指标”系列,将正在IPO的公司各方面财务指标与集微数据库中A股135家中国芯上市公司对比分析,并对其排名,以供半导体投资者和行业人员参考。本期进行对比分析的公司为拓荆科技股份有限公司。
据笔者查询上交所网站可知,拓荆科技科创板IPO处于已问询状态。据招股说明书显示,拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。公司聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。
公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个产品系列,已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线,并已展开10nm及以下制程产品验证测试。
报告期内,主要产品销售收入及占公司主营业务收入的比重如下:
分业务来看,报告期内,拓荆科技PECVD设备收入占比较高且增长较快,为公司的主要收入来源,占比近100%。
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- 编辑:李娜
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